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1400℃高溫箱式氣氛爐適用于高校，科研院所，工礦企業做氣氛保護燒結，氣氛還原的理想設備。具有溫場均勻，升降溫速度快，節能，可通入多種氣體等特點。

更新日期：2024-01-18

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可控氣氛箱式高溫爐采用雙層殼體結構和PID程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用耐溫硅膠、爐門采用硅膠墊，氣體經過流量計后由后膛進出，有多處爐膛進出氣口，可以預抽真空并能通氬氣、氮氣、氧氣、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，

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小型箱式氣氛爐采用雙層殼體結構和PID程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用耐溫硅膠、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進出，有多處爐膛進出氣口，可以預抽真空并能通氬氣、氮氣、氧氣、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣

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箱式氣氛保護高溫爐 適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在惰性氣氛環境下進行燒結。

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預抽真空氣氛爐應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根據不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

更新日期：2024-01-18

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實驗室真空氣氛爐應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根據不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

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